国内刊号:50-1199/TB
国际刊号:1674-6457
发布日期:
作者:盛兰兵, 张晓航, 尹东坤, 佘春, 王小宇, 沈元勋
单位:1.中国机械总院集团郑州机械研究所有限公司 高性能新型焊接材料全国重点实验室,郑州 450000;<br>2.重庆材料研究院有限公司,重庆 400707
关键词:化学气相沉积(CVD)金刚石膜,光学窗口,钎焊,银铜,活性元素
基金:中原科技创新领军人才项目(244200510023)
随着科技的迭代升级,对高性能光学窗口的需求日益凸显,金刚石光学窗口在电子、信息、航天等领域具有巨大的应用前景。目前金刚石窗口面临着性能要求高、连接难度大、传统钎焊材料难以满足需求的难题。本文对CVD金刚石光学窗口钎焊研究现状和发展趋势进行了论述,从金刚石使用的钎焊材料着手,分别介绍了Ni基、Cu基、Ag基3种不同类型的钎焊材料在金刚石钎焊中的应用现状。对Ag基钎料钎焊金刚石光学窗口过程进行了重点阐释,概述了添加不同种类合金成分的Ag基钎料对钎焊过程中组织形成及焊缝性能的影响,并探讨了单步及多步降熔法对减轻银铜基钎焊接头应力集中的作用机制。分析了Ni基与Cu基钎料因钎焊温度较高而容易产生严重的石墨化问题以及因存在较大的残余应力而不适用于窗口钎焊的原因,总结了不同钎料及钎焊工艺在窗口钎焊过程中存在的问题。最后探讨了目前Ag基钎料在钎焊金刚石窗口过程中仍存在的问题并提出了解决方案,并对金刚石窗口钎焊连接的未来发展进行了展望。
来源:2025年第6期
《精密成形工程》期刊编辑部